潍坊真空镀膜常用方法

潍坊真空镀膜技术一般分为物理气相沉积两类（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。

物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法将镀层气化为原子、分子或离子，直接沉积在基体表面的方法。硬反应膜的制备主要是通过物理气相沉积的方法制成的。它利用物质表面原子的热蒸发或溅射，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、膜均匀致密、膜厚可控性好、目标材料应用广泛、溅射范围广、可沉积厚膜、成分稳定的合金膜、重复性好等优点。同时，由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，物理气相沉积技术可作为高速钢和硬质合金薄膜工具的Z终处理工艺。由于物理气相沉积技术的使用可以大大提高刀具的切割性能，人们竞相开发高性能、高可靠性的设备，但也扩展了其应用领域，特别是在高速钢、硬合金和陶瓷刀具中的应用。

化学气相沉积技术是将含有薄膜元素的单质气体或化合物提供给基体，借助气相作用或基体表面的化学反应，在基体上制作金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和具有CVD和PVD特性的等离子化学气相沉积。

潍坊真空镀膜的优点：在真空条件下，成膜有很多优点：真空镀钛可以减少蒸发材料的原子和分子在飞向基板的过程中与分子的碰撞，减少气体中活性分子与蒸发源材料之间的化学反应（如氧化等），减少成膜过程中气体分子进入薄膜成为杂质的量，从而提供膜层的密度、纯度、沉积率和与基板的附着力。通常，真空蒸发电镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa。对于蒸发源与基板距离较远、膜质量要求较高的场合，压力较低。

潍坊真空镀膜常用方法：

（1）真空蒸发:将待涂层的基体清洗后放入涂层室，抽空后将涂层材料加热到高温，使蒸汽达到13.3Pa左右，使蒸汽分子飞到基体表面，凝结成薄膜。

（2）阴极溅射镀：将待涂层的基体放在阴极对面，将慵懒气体（如氩气）通入休闲室，坚持压力约1.33～13.3Pa，然后将阴极连接到2000V的DC电源上，引起辉光放电。带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅出的原子通过慵懒的气氛堆积在基体上形成膜。

（3）化学气相堆积：通过热分化选择的金属化合物或有机化合物，得到膜的堆积过程。

（4）离子镀:离子镀本质上是真空蒸镀与阴极溅射镀的有机结合，具有两者的工艺特点。